加熱制冷循環(huán)器（-20℃～200℃）

加熱制冷循環(huán)器應用范圍：升溫、恒溫、降溫控制系統(tǒng)；材料低溫高溫老化測試；化學冷源熱源恒溫控制；半導體設備的溫度控制；高壓反應釜動態(tài)溫度控制；雙層玻璃反應釜動態(tài)溫度控制；雙層反應釜動態(tài)溫度控制；微通道反應器溫度控制；蒸餾系統(tǒng)控溫等

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我司可對溫度范圍，尺寸，樣式，流量，壓力等進行定制，滿足客戶的不同需求。吉米諾儀器，竭誠為您服務!

加熱制冷循環(huán)器（-20℃～200℃）為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制，對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應用

> 采用PID溫度控制技術，恒溫波動度±0.05℃；

> 加熱管和制冷盤管均采用不銹鋼材質，易清洗；

> 細膩的隔熱和保溫設計，確保設備在+200℃運行時，儀器表面溫度不會太高，保證操作安全；

> 低噪音設計，免除實驗室噪音難題；

> 設備操作簡單，自動和手動2中模式，操作更方便；

> 工作溫度范圍內的過溫安全保護功能，保護實驗安全；

> 具有斷電記憶功能；

> 具有低液位保護和機械限溫保溫，雙重保護，使用更放心；

> 適合內部和外循環(huán)應用，應用范圍廣；

> 超高溫降溫技術，從高溫200℃直接制冷降溫；

> 知名品牌壓縮機，制冷效率高；

> 相關配件采用大品牌，性能穩(wěn)定且壽命長；

> 高性能渦旋泵循環(huán)攪拌，溫場均勻；

> 具備傳感器開路、短路保護、ADC初始化檢測等，安全防護更全面；

加熱制冷循環(huán)器（-20℃～200℃）

型號	GMD20-12	GMD20-20	GMD20-30	GMD20-54	GMD20-100
控溫范圍	-20℃～200℃
溫度波動度	±0.05℃～0.1℃
顯示精度	0. 01℃/0.1℃
溫度控制	PID自整定
制冷形式	單壓縮機制冷
安全性能	數(shù)顯溫度校準，傳感器開路、短路保護和報警，雙重溫度保護，高低溫保護，低液位保護
容積	12L	20L	30L	54L	100L
液槽尺寸	240x260x200mm	300x280x240mm	380x360x260mm	450x350x380mm	550x500x380mm
開口尺寸	220x240mm	280x260mm	360x340mm	430x330mm	530x480mm
外形尺寸	410x550x700mm	440x600x760mm	550x700x1000mm	630x720x1180mm	700x840x1230mm
傳感器	A級PT100（賀利氏）	A級PT100（賀利氏）	A級PT100（賀利氏）	A級PT100（賀利氏）	A級PT100（賀利氏）
最大流量	15L/min	15L/min	20L/min	25L/min	50L/min
最大壓力	1.5bar	1.5bar	3.5bar	4.0bar	5.0bar
加熱功率	1.5kW	2KW	4KW	8KW	12KW
制冷功率@20℃	0.6kW	1.2KW	2KW	4KW	7.5KW
電源	220V/50Hz/10A	220V/50Hz/16A	380V/50Hz/16A	380V/50Hz/25A	380V/50Hz/40A

可選附件

> 可選配RS485通訊接口，完成上位機通訊，監(jiān)控和控制；

> 可選密閉結構，保證設備高低溫運行和介質的性能；

> 升溫、恒溫、降溫控制系統(tǒng)

> 材料低溫高溫老化測試

> 化學冷源熱源恒溫控制

> 半導體設備的溫度控制

> 高壓反應釜動態(tài)溫度控制

> 雙層玻璃反應釜動態(tài)溫度控制

> 雙層反應釜動態(tài)溫度控制

> 微通道反應器溫度控制

> 蒸餾系統(tǒng)控溫